平台投诉热线:4000-660-990
成都兴科维真空科技有限公司

企业信息

会员级别:普通会员

企业类型:企业单位

联系人:王靖清

更多新闻分类
  • 暂无分类
首页 > 新闻中心 > 磁控溅射镀膜机的工作原理是什么?
新闻中心
磁控溅射镀膜机的工作原理是什么?
发布时间:2022-03-16        浏览次数:20        返回列表
 与蒸发镀膜相比,直流三极管溅射有两个缺点:一是溅射沉积速率低;第二,溅射所需气体的工作压力高。这两个缺点的综合作用导致气体分子污染薄膜。因此,磁控溅射镀膜机作为一种沉积速率高、工作气压低的新技术,具有很强的生命力,在薄膜制备过程中具有积极的作用。让我们先介绍电子气在静态电磁场中的运动。

IAvOJro8Qge2emu7X8h5_Q.jpg

当均匀磁场为B,电场为零时,电子不受磁场影响,而是沿磁力线作回旋运动。当B和E为均匀场且E与B平行时,电子任意加速,其节距逐渐增大。当电场有一个垂直于B的分量时,电子将沿B*e的方向漂移,并沿运动方向旋转。当B和E均匀且相互垂直时,从静止处移动的电子轨迹为摆线,摆线形成半径R。事实上,从阴极靶发射的电子具有约5ev的初始能量,阴极暗区的电场不是很均匀,所以电子运动轨迹不是严格的摆线。简言之,对于平面阴极,从电子运动到转折点的距离是D,这可以通过公式确定。

现在我们来谈谈磁控溅射镀膜机的工作原理。真空室中的残余气体中有少量初始电子E。在电场E的作用下,它在加速飞向阳极基底的过程中与氩原子发生碰撞。如果电子有足够的能量,它可以电离一个正离子和一个初级电子。初级电子飞向衬底。在电场E的作用下,正离子加速飞向并轰击阴极靶,溅射靶表面。在溅射粒子中,中性目标原子飞向衬底并沉积在衬底表面形成薄膜,这是其基本原理。

从靶溅射出来的二次电子称为二次电子。在飞向基片的过程中,由于洛仑兹力的影响,它们会以摆线和螺旋线的复合形式在靶面上作圆周运动。二次电子的运动路径不仅很长,而且受到靶面附近等离子体区电磁场的约束。在该区域电离的大量正离子轰击阴极靶,有效地提高了靶在衬底上的沉积速度。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量降低。当其能量耗尽时,在电场E的作用下最终沉积在衬底上。此时,衬底吸收的电子能量很低,因此衬底的温升很低。磁极轴上的电场与磁场平行,二次电子可以直接飞到衬底上,但此处的粒子密度较低,因此对温升影响不大,因此,磁控溅射镀膜机技术有两个优点:沉积速率高,衬底温升低。

综上所述,磁控溅射镀膜机的基本原理是利用磁场改变电子的运动方向,利用电磁场限制和扩展电子的运动轨迹,从而提高电子对工作气体的电离几率,有效利用电子能量。因此,与直流溅射相比,磁控溅射涂层中正交电磁场对电子的约束作用是两者的根本区别。正是由于这种效应,它才具有低温、高速的特点。

联系我们
询盘留言

您的询盘留言发送成功!

感谢您的留言,我们将第一时间与您联系。

免责声明:以上所展示的信息由企业自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责。
免费咨询 获取报价
欢迎获取优惠报价
免费通话

请输入您的电话号码,我们将自动回拨给您

格式:手机 133*******68        固话 0755****8

400专线
请拨打我在蟾系统平台的商铺400专线
4000-660-990
询盘留言

您的询盘留言发送成功!

感谢您的留言,我们将第一时间与您联系。

请输入您的询盘留言

您的询盘留言发送成功!

感谢您的留言,我们将第一时间与您联系。

欢迎拨打商家400专线
您也通过蟾系统平台统一服务热线:
4000-660-990
专属通道联系我们,我们将竭诚为您服务!
400专线24小时为您服务,欢迎拨打!
暂无详情数据